扫描系统作为电子显微镜的“指挥棒”,通过精准控制电子束在样品表面的扫描路径,实现微观形貌的高分辨率成像,其工作原理可拆解为以下核心环节:
一、电子束的生成与聚焦
电子枪(如热发射枪或场发射枪)发射高能电子束,经电磁透镜系统聚焦后,形成直径仅5-10纳米的细束。这一过程类似于光学显微镜中光源的准直,但电子束的波长更短(加速电压下波长可达0.01纳米级),为高分辨率成像奠定基础。
二、扫描系统的动态控制
末级透镜上方的扫描线圈是系统的“指挥中枢”。通过向线圈输入锯齿波电流,电子束在样品表面按光栅式路径扫描,即从左上方开始,逐行向右下方移动。扫描范围可通过调节电流幅度实现从微米到毫米级的灵活调整,满足不同放大倍率需求。
三、信号同步与图像重建
电子束与样品相互作用产生二次电子、背散射电子等信号,其强度与样品表面形貌直接相关。探测器捕获这些信号后,经放大器处理并同步传输至显像管。由于扫描线圈电流与显像管偏转线圈电流严格同步,样品表面任意点发射的信号均能精准对应显像管上的亮点,最终通过逐点成像完成一帧图像。
四、关键性能参数
分辨率:二次电子成像模式下可达1纳米,背散射电子成像模式下约3纳米,可清晰分辨纳米级结构。
景深:是光学显微镜的300倍,适合观察表面起伏较大的样品(如材料断口、生物组织)。
放大倍数:2-20万倍连续可调,覆盖从宏观形貌到微观结构的全尺度分析。
五、技术优势与应用场景
扫描系统通过非破坏性扫描实现高分辨率成像,且样品制备简单(导电材料可直接观察,非导电材料需喷镀导电层)。在材料科学中,可用于分析纳米材料形貌、镀层均匀性;在半导体领域,可检测芯片制造缺陷;在生物医学中,可观察细胞超微结构。随着低真空和环境扫描技术的发展,其应用已扩展至湿样品、含水生物组织等复杂场景。