详细介绍
品牌 | CHOTEST/中图仪器 | 价格区间 | 面议 |
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产地类别 | 国产 | 应用领域 | 能源,电子,综合 |
中图台阶仪NS200主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量,是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC,具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率,同时,其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术,使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。
中图台阶仪应用场景适应性强,其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求,能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位,其对表面微观形貌参数的准确表征,对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。
技术测量:探针式表面轮廓测量技术
样品观测:光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,1700*1400μm
平台移动范围X/Y:电动X/Y(100mm*100mm)(可手动校平)
最大样品厚度:50mm
载物台最大晶圆尺寸:150mm(6吋),200mm(8吋)
台阶高度重复性:<1nm(测量1μm台阶高度,1δ)
垂直分辨力:分辨力<0.25 Å(量程为13um时)
仪器尺寸: 640*626*534(mm)
仪器总重量:<50kg
1)台阶高度:能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;
2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数;
3)翘曲与形状:能够测量样品表面的2D形状或翘曲,如在半导体晶圆制造过程中,因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化,或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。
1.亚埃级位移传感器
具有亚埃级分辨率,结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰,确保仪器具有良好的测量精度及重复性;
2.超微力恒力传感器
1-50mg可调,以适应硬质或软质样品表面,采用超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的接触式测量;
3.超平扫描平台
系统配有超高直线度导轨,杜绝运动中的细微抖动,真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。
1、半导体应用
(1)沉积薄膜的台阶高度
(2)抗蚀剂(软膜材料)的台阶高度
(3)蚀刻速率测定
(4)化学机械抛光(腐蚀、凹陷、弯曲)
2、大型基板应用
(1)印刷电路板(突起、台阶高度)
(2)窗口涂层
(3)晶片掩模
(4)晶片卡盘涂料
(5)抛光板
3、玻璃基板及显示器应用
(1)AMOLED
(2)液晶屏研发的台阶步级高度测量
(3)触控面板薄膜厚度测量
(4)太阳能涂层薄膜测量
4、柔性电子器件薄膜应用
(1)有机光电探测器
(2)印于薄膜和玻璃上的有机薄膜
(3)触摸屏铜迹线
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